• <tr id='h0g424'><strong id='h0g424'></strong><small id='h0g424'></small><button id='h0g424'></button><li id='h0g424'><noscript id='h0g424'><big id='h0g424'></big><dt id='h0g424'></dt></noscript></li></tr><ol id='h0g424'><option id='h0g424'><table id='h0g424'><blockquote id='h0g424'><tbody id='h0g424'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='h0g424'></u><kbd id='h0g424'><kbd id='h0g424'></kbd></kbd>

    <code id='h0g424'><strong id='h0g424'></strong></code>

    <fieldset id='h0g424'></fieldset>
          <span id='h0g424'></span>

              <ins id='h0g424'></ins>
              <acronym id='h0g424'><em id='h0g424'></em><td id='h0g424'><div id='h0g424'></div></td></acronym><address id='h0g424'><big id='h0g424'><big id='h0g424'></big><legend id='h0g424'></legend></big></address>

              <i id='h0g424'><div id='h0g424'><ins id='h0g424'></ins></div></i>
              <i id='h0g424'></i>
            1. <dl id='h0g424'></dl>
              1. <blockquote id='h0g424'><q id='h0g424'><noscript id='h0g424'></noscript><dt id='h0g424'></dt></q></blockquote><noframes id='h0g424'><i id='h0g424'></i>

                高速分散机_实验室砂磨机_纳米砂磨机_干法研磨-广东时时彩平台纳米科技股份公司

                 > 产品 & 解决方案 > 研磨&抛光
                该机主要应用于玻♀璃、陶瓷等非金属材ξ料的手机2.5D、3D盖板以及铝合金等金属材料后盖的抛光。


                主要特点:

                ·伺服定压抛光,实时补偿耗材损耗;

                ·工件盘№具有既自转又公转的多轨迹运动,抛光均匀,抛光效果好;

                ·抛光▲盘由独立电机驱动旋转,正反转自动』切换,满足不同工艺需要;

                ·5个工位同步▓抛光,装夹方便,产能高;

                ·真空吸∮附装夹,自动排液,抛♂光稳定可靠;

                ·柔〓性加载系统,实现硬脆曲面零件的高效抛光;

                ·三级过滤系统,有效分离▂杂质,避免二次划伤;

                ·触摸屏人机操〒作界面,PLC控制,界面友好,信息量大。

                型号Model

                单位Unit

                JL-P420-6P

                下盘尺寸(外径×厚度)Workpiece plate(Outer dia. × thickness)

                mm

                φ408×14(高强@ 度铝合金High strength aluminum alloy

                上盘尺寸(外径)polishing plate (Outer dia.)

                mm

                φ1140

                抛光头数量Number of polishing heads

                5Pieces

                工件盘自转转速◆Workpiece plate rotation speed

                rpm

                245±2

                工件盘公转转︻速Workpiece plate revolution speed

                rpm

                112

                抛光盘转速∑Polishing plate speed

                rpm

                290±2

                抛光盘升√降行程Polishing plate lifting stroke

                mm

                350

                机床外形尺寸(长×宽×高)Machine dimension (L×W×H)

                mm

                1900×1500×2800

                整机重量Machine weight

                Kg

                3000

                ?